原标题：中国造首台超分辨光刻机，芯片制造实现了从0到1的历史性转变！

说到芯片制造，必然要提到光刻机，它是制造芯片的核心装备。

一直以来，光刻技术都掌握在日本和少数欧洲国家手中，我国在这方面是短板，时常遭遇国外掐脖子、禁售等各种制约。今年上半年中兴的危机，就是一个很好的警示，只有把技术牢牢抓在自己手中，才不会处处受制于人。

前不久，我国中科院光电所，用了七年时间，终于不负众望，研发出了中国人自己的超分辨光刻机，并在成都测试成功。

这台光刻机，采用365纳米波长光源，光刻分辨力22纳米，双重曝光技术后，可用于制造10纳米级别的芯片。也就是说，与荷兰ASML公司的技术相比，这台光刻机，用波长更长（近紫外）、成本更低（几万块的汞灯）的光源，可以实现更高的光刻分辨力（0.06倍曝光波长），是世界上首台分辨力最高的，紫外超分辨光刻装备。

这一技术的研发，在原理上突破了分辨力的衍射极限，克服了限制中国芯片制造的一大障碍，还创下了47项国内专利和4项国际专利。

虽然说这一设备，短时间还无法应用于芯片生产，但它成功打破了国外相关技术的垄断，取得了从无到有、从0到1的巨大进步！相信用不了多久，中国芯片的研发技术，一定可以赶超其他国家！你们说呢，朋友们？

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